Lam 12英寸薄膜沉積設備，最多可以配置3個工藝腔體，可以同時對12片wafer進行工藝處理。雙機械手傳送結構，實現更快的傳送效率。
產品特點
1.可選配雙硬盤自動備份系統，保證數據安全。2.可選配不同的工藝腔體。
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