2300 kiyo 系列是Lam 12英寸多晶硅和導體膜膜蝕刻設備,一般根據平臺可配置1~6腔體。設備采用ICP蝕刻原理,獨立控制離子濃度和轟擊力量,方便調節工藝性能,以及生產穩定。
產品特點
1.設備工藝套件損耗低,維護周期長2.設備工藝易調節,且生產穩定3.可以對精細圖案蝕刻
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