CVD 300
自主研發12英寸等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備,對反應腔模塊及關鍵部件優化設計的高產能PECVD設備。
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描述
產品特點
1.獨特多層Loadlock 設計,配合傳輸邏輯優化,產能高,成膜工藝優化,膜質佳,均勻性好;
2.操作系統基于Windows進行研發的符合半導體標準軟件控制系統,操作人性化,符合國人操作習慣;
3.具有獨立氣體輸運系統,獨立溫度控制Heater 的多反應臺腔體設計;
4.多工位混合工藝方式可滿足多樣性工藝需求;
5.兼容基于硅烷、TEOS氧化膜、氮化膜、硼磷摻雜等不同工藝需求;
應用領域
主要應用于邏輯芯片及FLASH、 DRAM存儲芯片制造領域。




