P5000
P5000平臺是AMAT多腔體設備平臺，可以安裝4個腔體。刻蝕腔體有MarkⅡ、MxP、MxP+、Super-E等，可用于氧化硅、氮化硅、多晶硅、硅及金屬材料的刻蝕。
CVD腔體可用于氧化硅、氮化硅、金屬鎢等材料的化學氣相沉積。
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產品特點
1.設備占地面積小、空間利用率高，適用于規模化生產。
2.可選配液晶操作面板。
3.可選配雙硬盤系統。
4.可定制不同的腔體配置，實現一機多用。
5.可升級兼容透明片。
6.提供多種新工藝開發及解決方案。
